发布文号: 商办援函〔2006〕19号
中央美术学院(设计学院)，清华大学，同济大学，上海交通大学，中国传媒大学，北京印刷学院：
新中国成立后，中国政府一直把对外提供经济技术援助作为履行国际主义义务的主要内容，向其他发展中国家提供力所能及的援助，援建了500多个公共设施项目，其中包括会议大厦、体育场馆、学校、医院等标志性项目200多个。为彰显中国政府援助形象，进一步扩大对外援助效果，商务部拟制作应用于援外建筑物的援助LOGO。鉴于贵单位在工艺美术设计业界享有崇高声誉，特此致函征集上述援助LOGO方案，并请提供3-4个投稿作品。有关具体事宜如下： 一、标识为一个立体多维LOGO。
二、标识应简洁、庄重、易于识别，能够表现中国政府的庄严形象，体现中国政府援助特性。
三、标识主要用于建筑物外墙。
四、投稿作品应为作者的原创作品，并附构思说明。作者应确认拥有作品的著作权，如因此引起任何相关法律纠纷，其法律责任由作者本人承担。
五、投稿作品按500mm*500mm的尺寸设计，并制作成立体模型实物。
六、作者需保留高精度的设计原图，以便选中后提供给商务部。
七、商务部将组织对投稿作品进行审定，并对选定作品的作者给予一定现金奖励。
八、最终选定作品将被视为商务部委托创作，在作者接受上述现金奖励后，即表示同意商务部拥有该作品的版权，可被用于商务部同意使用的各种场合和活动中，未经商务部许可不得擅自发表或使用。
九、请在收到此征集通知后五个工作日内将投稿作品及其彩印设计图纸一份送至商务部援外司，并附作者详细联系方式。
联系人：丁恬，孙秋月
电话：(010)85226624/85226623
传真：(010)65121626
电子邮箱：sunqiuyue@mofcom.gov.cn
dingtian@mofcom.gov.cn
地址：北京市东城区东安门大街82号进出口大楼623室商务部援外司综合处
中华人民共和国商务部办公厅
二〇〇六年十一月三十日